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2018

2018

  • 分類:發展曆史
  • 作(zuò)者:
  • 來源:
  • 發布時(shí)間(jiān):2022-09-26
  • 訪問(wèn)量:0

【概要(yào)描述】Ø 4 inch量産技術(shù),Ø 6inch關鍵技術(shù)。
研發水平位錯密度10³cm⁻²。

2018

【概要(yào)描述】Ø 4 inch量産技術(shù),Ø 6inch關鍵技術(shù)。
研發水平位錯密度10³cm⁻²。

  • 分類:發展曆史
  • 作(zuò)者:
  • 來源:
  • 發布時(shí)間(jiān):2022-09-26
  • 訪問(wèn)量:0
詳情

2英寸GaN單晶襯底的位錯密度獲得國(guó)際認可(kě);完成了(le)4英寸GaN單晶襯底;開(kāi)展了(le)6英寸GaN單晶襯底的研發

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上(shàng)一(yī)個: 2016
下(xià)一(yī)個: 2022
上(shàng)一(yī)個: 2016
下(xià)一(yī)個: 2022

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