氮化镓單晶襯底在射頻(pín)電子領域的應用
- 分類:應用領域
- 發布時(shí)間(jiān):2022-09-26 10:35:40
- 訪問(wèn)量:0
概要(yào):
詳情
- 基于GaN材料的射頻(pín)器件,具有高功率、高效率、耐高溫、抗輻照等優勢,是迄今最理想的半導體射頻(pín)電子器件。
- 基于氮化镓單晶襯底的HEMT器件,為(wèi)同時(shí)實現高頻(pín)率、寬頻(pín)譜、高效率、高功率密度、高可(kě)靠性提供解決方案。
- 半絕緣氮化镓,Fe摻雜(zá),C摻雜(zá)
![]() |
![]() |
![]() |
聯系我們
地(dì)址:蘇州工(gōng)業園區(qū)金(jīn)雞湖大道(dào)99号蘇州納米城西(xī)北區(qū)20幢518室
客服:
任小姐(jiě):17712482910
郵 箱:renjing@nanowin.com.cn
銷售總監:
戴冬雲:15962257010
郵 箱:daidongyun@nanowin.com.cn
在線留言
客戶留言
描述: